Вруће ваљана титанијумска плоча

Процес кисељења легуре титанијума је важна метода површинске обраде, која се углавном користи за уклањање оксида, оксидних филмова и загађивача са површине легура титанијума. Главни кораци овог процеса укључују одмашћивање, кисељење, чишћење, неутрализацију, уклањање рђе, чишћење и уклањање гвожђа. Међу њима, кисељење је кључни корак, обично користећи концентровану сумпорну киселину или флуороводоничну киселину, која може ефикасно уклонити површинске оксиде и оксидне филмове, што резултира глатком површином. Међутим, мора се обратити пажња на контролу концентрације, температуре и времена раствора киселине током процеса кисељења како би се избегла прекомерна корозија или друга оштећења на површини легуре титанијума. Поред тога, потребно је неутрализација и темељно чишћење након кисељења како би се спречило да заостала киселина утиче на наредне процесе. Предности процеса кисељења легуре титанијума су његова једноставност, ефикасност и способност да се обезбеди добар квалитет површине за накнадну обраду и употребу легура титанијума.